Номер по Госреестру СИ: 63454-16
63454-16 Установка измерений критических размеров элементов фотошаблонов
(MueTec 2010UV)
Назначение средства измерений:
Установка измерений критических размеров элементов фотошаблонов MueTec 2010UV (далее - Установка) предназначена для измерений критических размеров элементов на фотошаблонах (CD-измерения).
Внешний вид.
Установка измерений критических размеров элементов фотошаблонов
Рисунок № 1
Программное обеспечение
Программное обеспечение (ПО) Установки является специализированным ПО и представляет собой программный продукт управления пользователя с набором микрокоманд Dialog C Compiler (N418_54j2.exe, версия 5.0.6.0; диалоговое окно «NanoStar»).
ПО Dialog C Compiler (диалоговое окно «NanoStar») предназначено для управления Установкой и не может быть использовано отдельно от установки.
Влияние метрологически значимой части ПО Dialog C Compiler на метрологические характеристики Установки не выходит за пределы согласованного допуска.
Идентификационные данные (признаки) метрологически значимой части ПО Dialog C Compiler указаны в таблице 1.
Таблица 1
Наименование ПО |
Идентификационное наименование ПО |
Номер версии (идентификационный номер) ПО |
Цифровой идентификатор ПО (контрольная сумма исполняемого кода) |
Алгоритм вычисления иден-тифика-тора ПО |
Управляющая программа пользователя с набором микрокоманд «NanoStar» |
Dialog C Compiler |
5.0.6.0 |
701a88b3bbe3db0c 280c41defcfb9150 6f4acf12d007eeb3f 620040e083a063f |
ГОСТ Р 34.11-94 |
Метрологически значимая часть ПО Установки и измеренные данные достаточно защищены с помощью специальных средств защиты от преднамеренных изменений. Уровень защиты ПО Установки Dialog C Compiler (N418_54j2.exe, версия 5.0.6.0; диалоговое окно «NanoStar») соответствует уровню «Средний» в соответствии с п. 4.5 рекомендации Р 50.2.077-2014.
Знак утверждения типа
Знак утверждения типананосится на лицевую панель Установки в виде наклейки и на титульный лист эксплуатационной документации типографским способом.
Сведения о методиках измерений
Сведения о методиках (методах) измерений
Установка измерений критических размеров элементов фотошаблонов MueTec 2010UV. Руководство по эксплуатации.
Нормативные и технические документы
Нормативные и технические документы, устанавливающие требования к установке измерений критических размеров элементов фотошаблонов MueTec 2010UV
Техническая документация фирмы-изготовителя.
Поверка
Поверкаосуществляется по документу МП 63454-16 «Инструкция. Установка измерений критических размеров элементов фотошаблонов MueTec 2010UV. Методика поверки», утвержденному руководителем ГЦИ СИ АО «НИЦПВ» 19.06.2015 г.
Основные средства поверки:
-
- набор мер (фотошаблонов) критических линейных размеров элементов фотошаблонов (№ Госреестра 60717-15).
Заявитель
Закрытое акционерное общество «СКАН» (ЗАО «СКАН»)Адрес: 119330, г. Москва, ул. Дружбы, д. 10 «Б»
Тел.: (495) 739-5005 факс: (495) 234-0036
Е-mail: a.vilkin@scanru.ru
Испытательный центр
Государственный центр испытаний средств измерений акционерное общество «Научноисследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума»
(ГЦИ СИ АО «НИЦПВ»)
Адрес:119421, г. Москва, ул. Новаторов 40, корп. 1
Тел. (495) 935-97-77, 935-97-66, Тел./Факс: 935-96-90
E-mail: nicpv@mail.ru
Принцип действия Установки основан на оптическом измерении ширины линий на фотошаблонах. Установка представляет собой измерительно-вычислительный комплекс, в состав которого входит измерительная система и контроллер управления ПЭВМ.
Перед проведением измерений с помощью специальной калибровочной меры (фотошаблона) в Установке формируется информация о калибровочных поправках при измерениях критических размеров элементов топологии шаблонов, что позволяет исключить систематическую погрешность измерений.
Конструктивно контроллер управления выполнен в виде шкафа на котором расположены органы управления. Внешний вид Установки приведен на рисунке 1.
Место пломбировки от несанкционированного доступа. Место для размещения наклеек
(знака поверки и знака утверждения типа)
Рисунок 1 - Общий вид Установки MueTec 2010UV
1 - Дверь регулировки манометров, 2 - Г лавный включатель установки, 3 - Дверь блоков измерительного и сетевого контроллера, 4 - сигнальное устройство, 5 - микроскоп, 6 - клавишная панель оператора
- Установка измерений критических размеров элементов фотошаблонов MueTec 2010UV - 1 комплект;
- комплект эксплуатационной документации (Установка измерений критических размеров элементов фотошаблонов MueTec 2010UV. Руководство по эксплуатации) - 1 комплект;
-
- методика поверки - 1 шт.
Основные метрологические и технические характеристики Установки приведены в таблице 2.
Таблица 2
Наименование характеристики |
Значение характеристики |
Диапазон измерений критических размеров элементов фотошаблона, мкм: | |
- в режиме «Видимое излучение» |
от 0,8 до 100,0 |
- в режиме «У Ф-излучение» |
от 0,5 до 100,0 |
Среднеквадратическое значение погрешности измерений критических размеров элементов фотошаблона*, нм | |
- в режиме «Видимое излучение» |
4 |
- в режиме «У Ф-излучение» |
3 |
Минимальный размер элемента измеряемой изолированной линии фотошаблона, мкм: |
00 К) о" о" |
- в режиме «Видимое излучение» | |
- в режиме «У Ф-излучение» | |
Габаритные типоразмеры (длина х ширина хтолщина) измеряемых фото- |
152,4x152,4x6,35 |
шаблонов, мм |
127,0x127,0x3,05 127,0x127,0x2,30 |
Продолжение таблицы 2
Наименование характеристики |
Значение характеристики |
Область перемещения координатного стола измерительной платформы (X*Y), мм: - для фотошаблона 152,4*152,4*6,35 |
150*150 |
- для фотошаблона 127,0*127,0*3,05 |
150*150 |
- для фотошаблона 127,0*127,0*2,30 |
125*125 |
Г абаритные размеры установки (ширина * глубина * высота), мм |
1500*1200*1800 |
Масса, кг |
602 |
Напряжение питания частотой 50 Гц, В |
220 ± 22 |
Потребляемая мощность, кВ • А, не более |
1,6 |
Рабочий диапазон температуры, °С |
от 18 до 25 |
Относительная влажность воздуха при температуре 18 - 25 °С, %, не более |
75 |
Рабочее давление воздуха, гПа |
5500± 500 |
Вакуум централизованный, гПа |
минус 950 ± 50 |
*Среднеквадратическое значение погрешности измерений критических размеров элементов фотошаблона нормируется в диапазоне от 0,8 до 8 мкм.